[发明专利]一种铜造像表面抛光的方法有效

专利信息
申请号: 202110188648.6 申请日: 2021-02-19
公开(公告)号: CN112981410B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 吴永振 申请(专利权)人: 湖北觉辰工艺有限公司
主分类号: C23F3/06 分类号: C23F3/06;C09G1/12;C09G1/18
代理公司: 北京文苑专利代理有限公司 11516 代理人: 周会
地址: 435100 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种铜造像表面抛光的方法。首先将铜造像表面清洗干净,采用金属挫或电磨工具将铜茬磨平,采用双氧水浸泡1‑3h;然后将铜造像表面用清水清洗干净,浸泡入抛光液中浸泡1‑3h;最后将铜造像表面涂抹抛光膏,采用刷子反复刷洗1‑10遍,采用清水清洗干净。本发明的铜造像表面抛光的方法,采用液体抛光液浸泡后,在采用抛光膏打磨,铜造像抛光后光泽度大幅度提高,采用金刚石微粉作为打磨剂,能深入到边角缝隙等不容易打磨的地方,聚丙烯酸酯嵌段共聚物和腐蚀抑制剂的组合使用,在显著提高铜造像的光泽度的同时,提高了其耐腐蚀性能。
搜索关键词: 一种 造像 表面 抛光 方法
【主权项】:
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