[发明专利]面向集成电路互连电容提取的多介质格林函数预刻画方法有效

专利信息
申请号: 202110191939.0 申请日: 2021-02-19
公开(公告)号: CN112800710B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 喻文健;杨明 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/23;G06K9/62;G06F111/08;G06F115/12
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 韩海花
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提出一种面向集成电路互连电容提取的多介质格林函数预刻画方法。该方法包括:根据给定的集成电路互连工艺信息,利用立方体转移区域格林函数表的几何对称性,对若干种含多介质层的转移立方体进行压缩形式的预刻画,获得压缩的预刻画数据;其中,预刻画数据包括:含两层介质层转移区域的转移概率分布GFT、以及相应权值分布数据WVT;基于压缩的预刻画数据对多层介质互连结构进行随机行走电容参数提取。本申请利用立方体转移区域格林函数表的几何对称性,将原有的转移区域预刻画数据GFT和WVT的存储量进行压缩,并直接使用压缩后的GFT和WVT进行正常随机行走电容提取,节省了程序运行时内存开销。
搜索关键词: 面向 集成电路 互连 电容 提取 介质 格林 函数 刻画 方法
【主权项】:
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