[发明专利]半导体装置以及测量处理系统在审
| 申请号： | 202110192040.0 | 申请日： | 2021-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN113406465A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 赤堀博次 | 申请（专利权）人： | 拉碧斯半导体株式会社 |
| 主分类号： | G01R31/26 | 分类号： | G01R31/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 舒艳君;王秀辉 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供半导体装置以及测量处理系统。该半导体装置以及测量处理系统具备对多个测量值进行平均处理来计算平均测量值的结构，与软件处理的情况相比，能够在更短时间内获取更正确的平均测量值。该半导体装置以及测量处理系统包含：平均处理部，计算平均测量值，该平均测量值是关于从切换部输出的多个测量对象中的每个测量对象的多个观测值的平均值，其中，上述切换部切换并输出从多个测量对象中的每个测量对象获取的测量值；计时器，生成计时器信号，该计时器信号是预先决定的间隔的定时信号；以及控制部，根据计时器信号和测量序列来控制切换部和平均处理部，以计算每个测量对象的平均测量值，其中，上述测量序列是设定针对多个测量对象的测量顺序和测量次数的序列。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 装置 以及 测量 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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