[发明专利]图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202110194033.4 申请日: 2021-02-20
公开(公告)号: CN113053936A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 廖诗瑀;洪蔡豪;陈盈薰 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开的实施例描述了一种用于在图像传感器装置的辐射感测区域上形成镜子微结构的方法。该方法包括在衬底的前侧表面内形成开口;在开口的底部和侧壁表面上形成共形的注入层;在开口的底部和侧壁表面上生长第一外延层;在第一外延层上沉积第二外延层以填充开口,其中第二外延层形成辐射感测区域。该方法还包括在第二外延层的暴露表面上沉积堆叠件,其中该堆叠件包括高折射率材料层和低折射率材料层的交替对。本申请的实施例提供了图像传感器及其形成方法。
搜索关键词: 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
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