[发明专利]过滤装置和方法在审
| 申请号： | 202110196843.3 | 申请日： | 2021-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN112933988A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 卞玉洋;官锡俊;郭晓波;张聪 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B01D61/58 | 分类号： | B01D61/58;B03C1/30 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种过滤装置，包括：壳体，底层过滤膜和主过滤膜。壳体围绕形成内部空间。底层过滤膜将内部空间分割成底部空间和顶部空间。主过滤膜设置在顶部空间内且主过滤膜将顶部空间分割成顶部膜内空间和顶部膜外空间。进液管穿过壳体的顶部表面、顶部膜外空间和底层过滤膜实现和底部空间连通。磁场装置设置在底部空间外的壳体外周，磁场装置在底部空间形成均匀磁场以及在顶部空间中形成非均匀磁场，磁场装置形成的磁场分布使进液管中被过滤液体中的金属杂质受磁力作用而沉积在底部空间中，实现对被过滤液体的磁选分离过滤。本发明还提供一种过滤方法。本发明能进一步提高过滤效果特别是对金属杂质的过滤效果。 | ||
| 搜索关键词： | 过滤 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110196843.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
