[发明专利]一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法在审
| 申请号： | 202110198261.9 | 申请日： | 2021-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN114958206A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 卞鹏程;崔晓坤;王庆伟 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铜化学机械抛光液及其应用和化学机械抛光方法，该抛光液包含研磨颗粒、腐蚀抑制剂、络合剂、表面活性剂、pH调节剂和氧化剂，余量为水。在铜化学机械抛光过程中，本发明的铜化学机械抛光液能够满足前两步抛光步骤合并成一步抛光的使用要求，从而优化铜的抛光工艺、提高抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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