[发明专利]一种碳碳化硅靶材及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 202110199569.5 申请日: 2021-02-22
公开(公告)号: CN113004040B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;杨慧珍 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: C04B35/52 分类号: C04B35/52;C04B35/565;C04B35/622;B33Y30/00;B41J2/335
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 王岩
地址: 315400 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种碳碳化硅靶材及其制备方法和用途,所述碳碳化硅靶材的制备方法通过将碳粉和碳化硅粉混合后经两次球磨,并在二次球磨之间进行干燥处理,后续再经装模、烧结和冷却,得到所述碳碳化硅靶材。所述制备方法的制备工艺简单,且二次球磨结合烧结工艺能够制得致密度≥99.0%的碳碳化硅靶材。所得碳碳化硅靶材的微观组织均匀致密且靶材溅射性能优良,应用在3D打印或热敏打印等领域可有效提高打印设备工作效率及使用寿命,应用前景广阔。
搜索关键词: 一种 碳化硅 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
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