[发明专利]一种提高非晶碳化硅薄膜红光发光效率的方法在审
申请号: | 202110201017.3 | 申请日: | 2021-02-23 |
公开(公告)号: | CN113005425A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 陈晓旋;梁颖欣;王硕;肖扬;刘倩倩;陈光旭 | 申请(专利权)人: | 韩山师范学院 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;C23C16/509;H01L31/20;C09K11/65 |
代理公司: | 江苏法德东恒律师事务所 32305 | 代理人: | 李媛媛 |
地址: | 521041 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高非晶碳化硅薄膜红光发光效率的方法,属于纳米光电子器件材料技术领域。该方法包括以下步骤:在平行板电容型射频等离子体增强化学气相沉积系统中,将衬底固定在电容极板的下极板的上表面,同时对其加热;将硅烷、甲烷的混合气体通入反应腔;按照非晶碳化硅薄膜制备工艺设置混合气体中的硅烷、甲烷流量比,并在此基础上通入微小流量的氨气,同时调制反应室的抽气口,使反应室气压保持在20Pa不变;将射频信号加到电容极板的上极板上,控制生长时间。本发明的方法可将非晶碳化硅薄膜的红光发光效率提高4倍以上,本发明制备的具有强红光发射的掺氮富硅非晶碳化硅薄膜,能与当前微电子工艺相相兼容,易于实用化。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 碳化硅 薄膜 红光 发光 效率 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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