[发明专利]一种增强Mie散射的单层辐射制冷薄膜在审
| 申请号： | 202110204918.8 | 申请日： | 2021-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN113280528A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 黄程;徐泽文;詹耀辉;马鸿晨;王亮;章新源;李孝峰 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | F25B23/00 | 分类号： | F25B23/00 |
| 代理公司： | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人： | 王利斌 |
| 地址： | 215137 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种增强Mie散射的单层辐射制冷薄膜，包括基体，基体内部均匀分布有第一散射体与第二散射体，第一散射体为可侵入散射体，第二散射体为固态，第二散射体部分侵入到第一散射体内，形成散射体界面。本发明的有益效果：通过引入第二散射体，增加了散射系数，形成了散射体界面，进而形成增强的Mie散射，降低了依靠散射的辐射制冷器的厚度依赖性，使用成本降低，光学性能提高，避免了因为膜层过厚，应力不均匀形成的膜层卷曲现象，提升便利性和可靠性，第二散射体和两种散射体间所形成的界面是人工添加形成的，具有大小和体积分数的可控性质，优于多级孔薄膜的散射体不可控的特性，力学性能强，结构可靠，进一步提升了性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增强 mie 散射 单层 辐射 制冷 薄膜 | ||
【主权项】：
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