[发明专利]离子生成装置及离子生成方法在审
| 申请号： | 202110212058.2 | 申请日： | 2021-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN113498243A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 石田勇二 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种有助于提高离子注入工序的生产率的离子生成装置。离子生成装置(12)具备：等离子体生成室(78)，生成用于引出离子的等离子体(P)；及加热装置(90)，构成为向区划等离子体生成室(78)的部件或暴露于等离子体生成室内的部件照射激光(LB)而加热等离子体生成室(78)。区划等离子体生成室(78)的部件也可以是电弧室(72)。加热装置(90)也可以构成为向电弧室(72)照射激光(LB)。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 生成 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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