[发明专利]一种空间指向和长度可定制的光管焦场产生方法有效

专利信息
申请号: 202110218273.3 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN112946882B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 曾永西;余燕忠;陈木生 申请(专利权)人: 泉州师范学院
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 张灯灿;蔡学俊
地址: 362000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种空间指向和长度可定制的光管焦场产生方法,由两个高数值孔径物镜建立4Pi光学聚焦系统,在所述4Pi光学聚焦系统的共焦区放置空间指向和几何长度可定制的虚拟均匀磁流线源天线,所述虚拟均匀磁流线源天线产生的辐射场被两个物镜完全收集并准直到光瞳面;基于时间反演技术,逆转虚拟均匀磁流线源天线辐射场求得光瞳面的入射场;实现所述入射场,从光瞳面入射,经4Pi光学聚焦系统传播并在共焦区汇聚,在4Pi光学聚焦系统的共焦区形成期望的光管焦场。该方法有利于灵活定制不同空间指向和长度的光管焦场。
搜索关键词: 一种 空间 指向 长度 定制 光管焦场 产生 方法
【主权项】:
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