[发明专利]一种产生横向光针平面阵的方法有效

专利信息
申请号: 202110218274.8 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN112946883B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 曾永西;余燕忠;陈木生;曹璐瑶 申请(专利权)人: 泉州师范学院
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 张灯灿;蔡学俊
地址: 362000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种产生横向光针平面阵的方法,将两个用于汇聚入射场的高数值孔径物镜共轴放置,建立4π光学聚焦系统;在4π光学聚焦系统的焦平面放置虚拟均匀线源天线阵列,并计算得到所述虚拟均匀线源天线阵列产生的辐射场,所述虚拟均匀线源天线阵列的辐射场被两个物镜完全汇聚并准直到光瞳面,通过时间反演技术,逆转所述虚拟均匀线源天线阵列的辐射场求得光瞳面的入射场;将所述入射场从光瞳面入射,经4π光学聚焦系统传播并在焦区汇聚,在4π光学聚焦系统的焦平面形成光针平面阵。该方法有利于灵活定制横向光针平面阵。
搜索关键词: 一种 产生 横向 平面阵 方法
【主权项】:
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