[发明专利]一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜及其制备方法在审
申请号: | 202110218809.1 | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN113004557A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 杨伟军;齐国闯;马丕明;徐鹏武;东为富 | 申请(专利权)人: | 江南大学 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08G18/10;C08G18/64;C08H7/00;C08L75/04 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 林娟 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜及其制备方法,属于环境友好天然高分子材料领域。本发明选用纳米木质素作为原料,纳米木质素经过水热酚化改性制备得到高活性纳米木质素,将所述的改性纳米木质素质量份数为0.5~10份为准,聚氨酯预聚物质量分数计为100份,合成聚氨酯/纳米木质素复合材料,该方法制备工艺简单。本发明所制备的聚氨酯复合材料中,纳米木质素可以均匀分散于聚氨酯基体中,兼具增强增韧效果,并赋予聚氨酯复合材料薄膜优异的紫外屏蔽、介电及可重复加工性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 紫外 屏蔽 聚氨酯 木质素 复合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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