[发明专利]一种使用紫外线触发的真空灭弧室有效

专利信息
申请号: 202110224301.2 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN113012979B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 彭晶;王科;谭向宇;邓云坤;焦琳;马仪;赵现平;沈龙;李昊;刘红文;马宏明;彭兆裕 申请(专利权)人: 云南电网有限责任公司电力科学研究院
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 650217 云南省昆*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 本申请公开了一种使用紫外线触发的真空灭弧室,包括:真空灭弧室外壳、位移传感器、环状紫外线发射器、紫外线发射器控制器和设于真空灭弧室外壳内侧的静端屏蔽罩、主屏蔽罩、静触头、动触头、动端屏蔽罩和真空灭弧室波纹管;位移传感器设置于动导电杆上,位移传感器、紫外线发射器控制器和环状紫外线发射器顺次连接,紫外线发射器控制器用于根据位移传感器发送的信号控制环状紫外线发射器;主屏蔽罩在靠近环状紫外线发射器的一侧设有主屏蔽罩开口,环状紫外线发射器通过主屏蔽罩开口将紫外线照射静触头和动触头之间的空间。本申请的真空灭弧室减少了合闸涌流和分闸截流过电压,具有结构简单和成本低廉等优点,特别适用于无功投切等场合。
搜索关键词: 一种 使用 紫外线 触发 真空 灭弧室
【主权项】:
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