[发明专利]一种基于机器视觉的微纳结构缺陷检测方法在审

专利信息
申请号: 202110224361.4 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN113008793A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 王景彬;王健;邓晔;米松;张龙龙 申请(专利权)人: 天地伟业技术有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/95
代理公司: 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 代理人: 李彦彦
地址: 300384 天津市滨海新区*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种基于机器视觉的微纳结构缺陷检测方法,包括如下步骤:S1、对输入的图像进行OTSU二值化处理;S2、对二值图像水平和垂直投影;S3、定位水平、垂直投影的波峰、波谷位置;S4、根据波谷和波峰位置,得到微纳结构的宽高尺寸;S5、进行局部自差,并对差图进行二值化处理;S6、遍历二值图中所有的白色团块,并根据设定阈值判断检测区域内是否存在异常。本发明所述的基于机器视觉的微纳结构缺陷检测方法根据检测结构规律排列的特征,采用局部自差的方法,能够快速且准确的将异常部位检测出来,而不受外部的光源与前端图像处理的影响。
搜索关键词: 一种 基于 机器 视觉 结构 缺陷 检测 方法
【主权项】:
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