[发明专利]基于欧姆再生长的GaN基射频功率器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110225408.9 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN113113478B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 马晓华;周雨威;宓珉瀚;祝杰杰;韩雨彤;张濛;王鹏飞;侯斌;杨凌 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/20 分类号: H01L29/20;H01L29/205;H01L29/423;H01L29/45;H01L21/335;H01L29/778
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于欧姆再生长的GaN基射频功率器件及其制备方法,该方法包括:S1:在衬底上生长GaN基异质结;S2:采用干法刻蚀工艺对GaN基异质结的欧姆区域进行刻蚀,形成欧姆再生长区域以进行欧姆再生长;S3:在器件表面外延生长n+GaN层;S4:采用干法刻蚀工艺对n+GaN层进行自终止刻蚀,去除欧姆再生长区域之间的n+GaN层;S5:利用离子注入设备,在器件的两侧形成隔离区;S6:在n+GaN层上淀积金属,形成源极和漏极;S7:在器件表面形成钝化层;S8:采用干法刻蚀工艺对栅极区域的钝化层进行刻蚀,形成栅极凹槽,在栅极凹槽淀积金属形成栅极。本发明的制备方法,简化了欧姆再生长的制备工艺,同时延续了常规欧姆再生长技术的优势。
搜索关键词: 基于 欧姆 再生 gan 射频 功率 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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