[发明专利]大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法有效
| 申请号： | 202110226155.7 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN113004804B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 潘国顺;陈高攀;罗桂海;罗海梅;周艳;潘立焱 | 申请（专利权）人： | 深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B1/04 |
| 代理公司： | 深圳市壹壹壹知识产权代理事务所(普通合伙) 44521 | 代理人： | 师勇 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法，所述抛光液包括下述以重量百分比计的组分：磨粒5～50 wt%；碱性腐蚀剂0.1～10 wt%；分散剂0.01～1 wt%；酸性物质0.1～10 wt%；表面活性剂0.001～0.1 wt%；去离子水余量。本发明利用超声振动辅助来提高边缘抛光中颗粒动能，在传统硅边缘抛光中磨粒切削作用基础上、增加磨粒在水平或垂直方向上的冲击作用，使得抛光中的机械作用增加，提高了大尺寸硅边缘抛光效率；同时为了平衡化学与机械作用，以及避免机械作用过强产生缺陷，本发明采用离子交换树脂通过离子交换法对磨粒进行表面改性，结合抛光液配方的调控，快速获得超光滑表面。 | ||
| 搜索关键词： | 尺寸 硅片 边缘 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】：
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