[发明专利]改善金属线工艺热点的OPC修正方法有效

专利信息
申请号: 202110226492.6 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN113126422B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 孟任阳;于世瑞 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201315 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种改善金属线工艺热点的OPC修正方法包括:步骤一、对原始掩模板版图进行第一次双重图形拆分和OPC修正并筛选出靠近器件辅助图形附近的金属线工艺热点图形;步骤二、进行第二次双重图形拆分,对金属线工艺热点图形附近的器件辅助图形全部着色为异色,并对原始掩模板版图进行重新拆分,将金属线工艺热点图形和附近的器件辅助图形分别拆分到第一和第二层掩模板版图上;步骤三、进行第二次OPC修正得到最终掩模板版图。本发明能有效提高金属线工艺热点图形的光刻工艺窗口,减少金属线工艺热点图形产生短路或断路的风险。
搜索关键词: 改善 金属线 工艺 热点 opc 修正 方法
【主权项】:
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