[发明专利]基于非平面结构的超宽带微波散射透波结构及制备方法在审
| 申请号： | 202110227011.3 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN113036441A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 吴国璋;刘建国;赵泽平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘歌 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种基于非平面结构的超宽带微波散射透波结构及制备方法，超宽带微波散射透波结构包括：非平面介质层，位于超宽带微波散射透波结构中部，包括第一介质层单元和第二介质层单元；第一导电单元，设置在第一介质层单元上；第二导电单元，设置在第二介质层单元上；以及导电层，设置在非平面介质层下表面，用于充当接地效果和对低频微波进行透射的效果。本发明通过引入两种处于不同介质层高度的散射型导电材料结构，能够进一步实现超结构的宽带低散射性能，同时对底部导电层进行部分开孔结构设计，保证了低频正常通信区，实现对入射电磁波高频散射和低频透射的效果，使整体结构同时具备宽带高频低散射防护能力和低频透射通信能力，有利于工程化应用。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 平面 结构 宽带 微波 散射 制备 方法 | ||
【主权项】：
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