[发明专利]一种具有纳米多级结构的金属Cr涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110227118.8 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN113088904B 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 王亚强;肖珣;张金钰;吴凯;刘刚;孙军 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 范巍
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种具有纳米多级结构的金属Cr涂层及其制备方法,通过磁控溅射在洁净的硅基体上沉积制备具有纳米多级结构的金属Cr涂层,其原理是Ar气经辉光放电后产生高密度Ar+,Ar+在电场的作用下被强烈吸引到负电极并以高速率轰击两个金属Cr直流靶,形成碰撞级联过程溅射出靶原子和二次电子,Cr原子最终反向运动至阳极的硅基体上沉积,而二次电子在正交电磁场的运动方向与电场、磁场垂直,以旋轮线的形式循环运动,提高了Ar的电离率,增加了离子密度和能量,从而实现高速率溅射。最终本发明在不同的沉积气压下制备出具有纳米多级结构的金属Cr涂层。
搜索关键词: 一种 具有 纳米 多级 结构 金属 cr 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
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