[发明专利]电子束抗蚀剂组合物在审
| 申请号： | 202110231195.0 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN113376958A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 斯科特·刘易斯;理查德·温培尼;斯蒂芬·耶茨 | 申请（专利权）人： | 曼彻斯特大学 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 英国曼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及电子束(eBeam)抗蚀剂组合物，特别是用于制造集成电路的(eBeam)抗蚀剂组合物。这种抗蚀剂组合物包含抗散射化合物，该抗散射化合物使散射和次级电子产生最小化，从而提供极高分辨率的平版印刷。这种高分辨率平版印刷可以直接用于基于硅的基底上以产生集成电路，或可以可选择地用于产生平印掩模(例如光掩模)以促进高分辨率平版印刷。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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