[发明专利]光学级的钒补偿的4H单晶和6H单晶在审
| 申请号： | 202110232426.X | 申请日： | 2021-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN113341485A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 伊利亚·茨维巴克;瓦拉他拉扬·伦加拉扬;安德鲁·N·苏齐兹;加里·E·鲁兰 | 申请（专利权）人： | II-VI特拉华有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02;C30B29/36 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;孙雅雯 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光学装置，包含钒补偿的高电阻率的6H多型或4H多型碳化硅(SiC)单晶，所述碳化硅(SiC)单晶被配置成用于透射波长在420nm至4.5μm范围内的光。所述装置可以包括窗、透镜、棱镜、或波导。一种光学传输系统，包括用于产生波长在420nm至4.5μm范围内的光的光源和用于接收和透射光的光学装置，其中所述光学装置包含钒补偿的高电阻率的6H多型或4H多型SiC单晶。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 补偿 | ||
【主权项】：
暂无信息
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