[发明专利]一种引入纵向沟道结构的功率集成芯片有效

专利信息
申请号: 202110235396.8 申请日: 2021-03-03
公开(公告)号: CN113035863B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 盛况;刘立;王珏;于浩 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L29/78;H01L29/861;H01L29/10
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 张羽振
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种引入纵向沟道结构的功率集成芯片,包括:P型衬底区、纵向耐压区、隔离区、MOSFET和二极管区域;所述二极管区域包括二极管、N‑横向漂移区和纵向沟道区;P型衬底区位于芯片底部,P型衬底区上方设置纵向耐压区,纵向耐压区上方一边设置MOSFET,纵向耐压区上方另一边设置二极管区域。本发明的有益效果是:通过加入纵向沟道区并适当调节其沟道长度,来增加纵向耗尽层在N型层的极限深度;当漏极/阳极对源极/参考地形成高压降时,避免了因耗尽层边界扩展到二极管阳极而出现的纵向穿通问题。纵向沟道区提升了功率集成芯片的纵向耐压能力和整体耐压水平,拓宽了芯片的应用范围。
搜索关键词: 一种 引入 纵向 沟道 结构 功率 集成 芯片
【主权项】:
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