[发明专利]一种石墨烯纳米窄带及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 202110236329.8 | 申请日： | 2021-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN112850695A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 翁千越 | 申请（专利权）人： | 上海赛普瑞特生物科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 高燕;许亦琳 |
| 地址： | 200123 上海市浦东新区中国（上海）自*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种石墨烯纳米窄带及其制备方法和用途，所述石墨烯纳米窄带的制备方法包括：1)聚乙烯醇纳米丝膜制备：采用8wt％～15wt％的聚乙烯醇水溶液或聚乙烯醇乙醇溶液为纺丝液采用静电纺丝技术形成聚乙烯醇纳米纤维膜；2)对聚乙烯醇纳米纤维膜碳化：在聚乙烯醇纳米纤维膜上添加催化剂，然后在惰性气体氛围和400～500℃下处理至少2h；然后酸洗，再水洗形成碳化膜；3)石墨化：碳化膜在惰性气体氛围和1250～1350℃下处理至少3h。本发明技术方案形成的石墨烯纳米窄带是条带结构，具有的优良的单向导电性和单向导热性，避免了二维石墨烯的平面堆垛带来的稳定性差的缺陷，有望用于集成电路中作为具有超导特性的导线。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 纳米 窄带 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
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