[发明专利]一种200mm CMP Ring PPS大平面研磨方法有效
| 申请号： | 202110239923.2 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN112975586B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;章丽娜 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种200mm CMP Ring PPS大平面研磨方法，所述研磨方法包括：对研磨机、研磨液以及研磨产品进行准备；将所述研磨产品安装至所述研磨机，并对所述研磨产品进行研磨加工；对所述研磨机进行保养。所述研磨方法可以提高PPS大平面的研磨效果，使得PPS表面产生镜面效果，增加CMP Ring的研磨使用次数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 200 mm cmp ring pps 平面 研磨 方法 | ||
【主权项】：
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