[发明专利]一种探测反射光变化的装置及方法有效
| 申请号： | 202110240241.3 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113091624B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 王奇;李仲禹;王政 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 赵伟 |
| 地址： | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种探测反射光变化的装置及方法，通过透射具有第一偏振态的入射光束，并进行场强分割形成第一场强分布，准直汇聚具有第一偏振态和第一场强分布的入射光束照射至物体表面以形成具有第一偏振态和第二场强分布的反射光束；接收视场范围内具有第一偏振态和第二场强分布的反射光束并准直以形成具有第一偏振态和第三场强分布的反射光束；将具有第一偏振态和第三场强分布的反射光束调整至第二偏振态后，进行场强分割以形成具有第二偏振态和第四场强分布的反射光束，解析时间间隔内具有第二偏振态和第四场强分布的反射光束变化信息，从而使得解析之后光强变化和成像位置偏差所形成的信号变化增强，提高探测器信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 探测 反射光 变化 装置 方法 | ||
【主权项】：
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