[发明专利]一种探测反射光变化的装置、方法及膜厚测量装置有效
| 申请号： | 202110240243.2 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113048894B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 王奇;李仲禹;王政 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 方可 |
| 地址： | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种探测反射光变化的装置及方法，利用第一光瞳分割器将入射光束进行场强分割使得入射光束在第一光瞳分割器的第一表面形成第一场强分布；准直汇聚具有第一场强分布的入射光束斜入射至物体表面以形成具有第二场强分布的反射光束；接收具有第二场强分布的反射光束并准直以形成具有第三场强分布的反射光束；利用第二光瞳分割器的位置和形状对具有第三场强分布的反射光束进行场强分割，使得具有第三场强分布的反射光束在第二光瞳分割器的第一表面形成第四场强分布，第一光瞳分割器和第二光瞳分割器具有相同的孔径函数分布；获取具有第四场强分布的反射光束，解析时间间隔内具有第四场强分布的反射光束变化信息，从而使得解析之后光强变化和成像位置偏差所形成的信号变化增强，提高探测器信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 探测 反射光 变化 装置 方法 测量 | ||
【主权项】：
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