[发明专利]振动衰减结构及曝光装置有效

专利信息
申请号: 202110240551.5 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN112987508B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 余先勇 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;陈丽丽
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种振动衰减结构及曝光装置。所述振动衰减结构包括:检测组件,覆盖于管道的外表面,用于检测所述管道的振动频率,所述管道用于传输流体;衰减组件,覆盖于所述管道的外表面,所述检测组件与所述衰减组件沿平行于所述管道的轴线方向平行排布,所述衰减组件能够根据所述振动频率调整自身的吸振频率,以衰减所述管道的振动。本发明实现了对所述管道振动最大程度的衰减,改善了所述管道振动对产品质量和产品良率的影响,特别是对曝光过程中套刻精度的影响。
搜索关键词: 振动 衰减 结构 曝光 装置
【主权项】:
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