[发明专利]探测反射光变化的装置、方法及膜厚测量装置有效
| 申请号： | 202110241306.6 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113048895B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 王奇;李仲禹;王政 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 张英 |
| 地址： | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种探测反射光变化的装置、方法及膜厚测量装置，该装置包括至少一探测光源，用于产生入射光束；至少一光瞳分割系统，用于将入射光束场强进行分割使其在光瞳分割系统第一表面形成为第一场强分布；将具有第三场强分布反射光束使其在光瞳分割系统第二表面形成为第四场强分布；至少一光路准直系统，用于将入射光束聚焦至待测体表面形成为第二场强分布；接收反射光束于光瞳分割器的第一表面形成为第三场强分布。按照本发明的装置及方法，在入射光路上设置瞳面分割，进一步对入射光和反射光使用同一光路器件，通过调整入射探测光光束的场强分布或透镜组视场范围，同样可以调制目标出射探测光光斑的场强分布，提高探测器信噪比。 | ||
| 搜索关键词： | 探测 反射光 变化 装置 方法 测量 | ||
【主权项】：
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