[发明专利]一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺有效
申请号: | 202110243038.1 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN112897990B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 唐智勇 | 申请(专利权)人: | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
主分类号: | C04B35/01 | 分类号: | C04B35/01;C04B35/622;C04B35/626 |
代理公司: | 长沙鑫泽信知识产权代理事务所(普通合伙) 43247 | 代理人: | 刁飞 |
地址: | 412000 湖南省株洲*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: |
本发明公开了一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺,属于ITO靶材加工技术领域,该离心喷雾造粒工艺包括以下步骤:S1、称取In |
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搜索关键词: | 一种 用于 制备 高密度 ito 离心 喷雾 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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