[发明专利]包含侧链具有烷氧基甲硅烷基和巯基的聚合物型硅烷偶联剂的涂布组合物有效

专利信息
申请号: 202110243266.9 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN113355020B 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 山口真人;渡边勇树 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: C09D183/08 分类号: C09D183/08;C09D7/62;G02B1/04
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李渊茹;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是提供所得的固化膜的与基材的密合性、耐候性试验后的外观、耐候性试验后的密合性、耐擦伤性、透明性优异的涂布组合物。解决手段是一种涂布组合物,其特征在于,是包含下述(S)成分和(T)成分的涂布组合物,(S)成分为硅烷化合物、其水解物、或它们的混合物,该硅烷化合物包含聚合物型硅烷偶联剂作为(S1)成分,该聚合物型硅烷偶联剂在有机化合物的主链上具有烷氧基甲硅烷基和巯基作为侧链,并且(巯基)与(烷氧基甲硅烷基)的摩尔比即、(巯基)/(烷氧基甲硅烷基)为2~6,且以巯基当量为150g/摩尔~300g/摩尔的比例含有巯基,(T)成分为具有2nm~100nm的平均粒径的胶体状金属氧化物粒子(T3),以质量比计以(S)成分:(T)成分为100:(10~500)的比例含有(S)成分和(T)成分。一种光学构件,在光学基材的表面具有通过涂布组合物而形成的固化膜。
搜索关键词: 包含 具有 烷氧基甲 硅烷 巯基 聚合物 硅烷偶联剂 组合
【主权项】:
暂无信息
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