[发明专利]一种用于整流二极管生产线的酸洗装置在审
申请号: | 202110243304.0 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113035753A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 卢博朗;卢博宇 | 申请(专利权)人: | 浙江柳晶整流器有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/10;B08B3/08 |
代理公司: | 温州知西思悟专利代理事务所(普通合伙) 33379 | 代理人: | 姚丙乾 |
地址: | 325600 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于整流二极管生产线设备技术领域,具体为一种用于整流二极管生产线的酸洗装置,包括酸洗箱,所述酸洗箱上形成注液口以及排液口,所述酸洗箱内形成酸洗轨道,所述酸洗轨道的两端于酸洗箱上形成注料口以及出料口,所述注料口与所述出料口之间存在高度差,所述酸洗轨道上形成若干渗液口,所述酸洗箱内形成若干气泡发生器。本发明通过酸洗轨道,并且注料口和出料口形成高度差,实现对料件的自然下落,并且将酸洗区域限制在酸洗轨道内,配备气泡发生器,提升酸洗液在酸洗轨道或酸洗箱内的流速,提高酸洗效果,此外开设的渗液口用于更新酸洗液。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 整流二极管 生产线 酸洗 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造