[发明专利]基于光流算法测量显微镜下纳米尺度三维形变的方法有效
| 申请号： | 202110246918.4 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN113048901B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 赵冉;贾金升;许慧超;刘波;王一苇;那天一;孔壮 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/16 | 分类号： | G01B11/16;G06T7/60 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 张晓萍;刘铁生 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种基于光流算法测量显微镜下纳米尺度三维形变的方法，其包括：分别获取材料形变前的正投影图像和形变后的正投影图像；利用光流算法获得形变前后的两幅图像之间的面内位移场；根据楔面数学关系，由所述面内位移场得到材料形变的离面位移场。当物体在显微镜下发生形变时，固体材料的形变可被看作楔面形变，得到面内位移与离面位移的数学关系，本发明利用光流法得到材料的面内位移场，进而得到材料的离面位移场。本发明方法只需一部相机拍摄两幅图像即可完成测量，不需要干涉光路，对于测试环境的适用性较强，适合工业检测，同时可大幅降低测量误差，降低测量速度，具有较高的测量精度，且适合于动态测量。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 算法 测量 显微镜 纳米 尺度 三维 形变 方法 | ||
【主权项】：
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