[发明专利]环形掩膜版、光场调控方法、单像素成像方法及系统有效
| 申请号： | 202110250723.7 | 申请日： | 2021-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN113033723B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 孙宝清;焦俊鹏;蒋文杰 | 申请（专利权）人： | 山东大学 |
| 主分类号： | G06V10/88 | 分类号： | G06V10/88;G03F1/54 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 张庆骞 |
| 地址： | 266237 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于光场调控领域，提供了一种环形掩膜版、光场调控方法、单像素成像方法及系统。其中，所述环形掩膜版的形状为环形；所述环形掩膜版上覆盖有掩膜版图案，所述掩膜版图案由透光区和不透光区构成。本发明的环形掩膜版造价成本低，且具有标志识别区，能够通过标记位的方式准确地确定掩膜版方位，进而提高了调制精度。 | ||
| 搜索关键词： | 环形 掩膜版 调控 方法 像素 成像 系统 | ||
【主权项】：
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