[发明专利]硅片硼扩散用可喷涂硼源及其应用有效
| 申请号： | 202110251406.7 | 申请日： | 2021-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN113024700B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 杨立功;王小军;邓舜 | 申请（专利权）人： | 常州时创能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F130/06 | 分类号： | C08F130/06;C09D143/00;C09D11/30;H01L21/228 |
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| 地址： | 213300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了提供一种硅片硼扩散用可喷涂硼源，该硼源为硼改性丙烯酸酯类聚合物，其合成方法为：以（取代）硼酸和（α‑取代）丙烯酸羟烷基酯为原料，在阻聚剂和带水剂存在下进行酯化反应得到含硼的（α‑取代）丙烯酸酯单体，再对此单体进行自由基聚合得到含硼的丙烯酸树脂。本发明还提供该硼源的应用。本发明硼源可溶于乙醇或乙醇与水的混合液，从而形成适于喷涂和喷墨打印的硼源溶液，且可提高硼源喷涂的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 扩散 喷涂 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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