[发明专利]一种基于模板制造两级微纳结构阵列的方法

摘要

本发明公开一种基于模板制造两级微纳结构阵列的方法，涉及微纳两级结构制备技术领域，包括以下步骤：步骤一、微沟槽模板制造；步骤二、在微沟槽模板上均匀镀覆一层光刻胶；步骤三、微沟槽模板引导SiO2纳米球自组装；步骤四、将自组装有SiO2纳米球的微沟槽模板取出烘干；步骤五、抗蚀金属膜镀覆；步骤六、SiO2纳米球去除；步骤七、材料刻蚀；步骤八、将微沟槽表面剩余的光刻胶和网状抗蚀金属层去除，最终将在微沟槽表面制备有序排列的纳米孔状结构。本发明能保证微米级结构及纳米结构均具有很好的均一性，而且两级结构具有较好的强度。