[发明专利]一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺在审

专利信息
申请号: 202110259368.X 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113046711A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 殷清 申请(专利权)人: 蓝思科技(长沙)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;H04M1/02;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 付丽
地址: 410100 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺,本工艺以PET为基材,通过UV转印在PET上形成纹理层,通过镀膜(主材料Nb靶材/Si靶材)形成高厚度的NCVM膜层,后通过丝印油墨,形成盖底油墨层,通过镭射切割形成所需要的菲林单体,此种膜片具有高耐折性,本发明主要通过优化UV转印的胶水以及NCVM工序的镀膜材料及条件,来优化膜片的抵抗膜层破裂的能力,使其在通过真空贴合后,即使在水汽的影响下,也不会出现膜裂不良,从而提升产品的外观性能,同步满足产品的信赖性测试要求。
搜索关键词: 一种 高膜厚高 弧度 膜片 制备 工艺
【主权项】:
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