[发明专利]基于自对准技术的GaN基毫米波功率器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110262423.0 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113113479B 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 马晓华;宓珉瀚;周雨威;刘文良;韩雨彤;张濛;侯斌;祝杰杰 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/20 分类号: H01L29/20;H01L29/205;H01L29/423;H01L29/45;H01L21/335;H01L29/778
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于自对准技术的GaN基毫米波功率器件及其制备方法,该方法包括:S1:在衬底上生长GaN基异质结;S2:在GaN基异质结上生长n+GaN帽层;S3:利用离子注入设备,在器件的两侧形成隔离区;S4:在欧姆区域的n+GaN帽层上淀积金属,形成源极和漏极;S5:在源极和漏极之外的区域淀积钝化层;S6:采用干法刻蚀工艺对栅极区域的钝化层进行刻蚀,形成凹槽;S7:采用干法刻蚀工艺对凹槽下方的n+GaN帽层进行自终止刻蚀,形成栅极凹槽;S8:在栅极凹槽侧壁淀积绝缘层,并在具有绝缘层的栅极凹槽淀积金属形成栅极。本发明的制备方法,与常规自对准工艺制备方法相比,避免了制备难度高、工艺复杂的MBE欧姆再生长环节,使得制备工艺更加简化。
搜索关键词: 基于 对准 技术 gan 毫米波 功率 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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