[发明专利]一种原位实现六方氮化硼均匀氟掺杂的方法在审
| 申请号： | 202110263621.9 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN112875659A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 刘开辉;刘灿;王卿赫 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C01B21/064 | 分类号： | C01B21/064 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王欣 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种原位实现六方氮化硼均匀氟掺杂的方法，涉及六方氮化硼的制备以及对其进行元素掺杂的方法。本方法采用含氟化合物作为前驱体，在其下游位置放置金属箔片作为生长基底，然后利用化学气相沉积法，快速获得均匀氟掺杂的六方氮化硼。本发明提出的方法，通过简单、快速、无损的手段，原位实现了高质量、均匀氟掺杂的六方氮化硼样品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原位 实现 氮化 均匀 掺杂 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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