[发明专利]一种高精度激光微纳投影打印方法及系统在审
| 申请号： | 202110263909.6 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113043588A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 魏一振;张卓鹏 | 申请（专利权）人： | 杭州志英科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/124 | 分类号： | B29C64/124;B29C64/386;B29C64/268;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 311215 浙江省杭州市萧山*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高精度激光微纳投影打印方法及系统，基于非简并双光子聚合效应，采用不同波长的两束飞秒激光，利用空间光调制器产生图形化光强分布，校准调节两个空间光调制器产生的有效成像区域后，两个空间光调制器产生的两个光强分布图在光刻胶上部分重叠，部分重叠区域激发非简并双光子聚合效应进行光刻。本申请的一种高精度激光微纳投影打印方法及系统，通过“重叠投影光刻”技术来提高加工精度，同时利用空间光调制器产生图形化光强分布，实现高效率的并行微纳加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 激光 投影 打印 方法 系统 | ||
【主权项】：
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