[发明专利]一种集成化硅基宽光谱单光子雪崩二极管及制作方法在审

专利信息
申请号: 202110267501.6 申请日: 2021-03-11
公开(公告)号: CN115084306A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 刘阳;朱樟明;刘马良;胡进;王夏宇;马瑞 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18;H01L31/0224
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种集成化硅基宽光谱单光子雪崩二极管及其制作方法,二极管的阳极电极延长至浅槽隔离层10,增大了平面结拐点的曲率半径,将电场极值引入到STI区,可平整结边缘电场,使结平面电场更加均匀,且雪崩区由中心深N阱401和中心P阱601构成,可以形成较宽的雪崩倍增区,有效提高短波近红外波段的光子吸收,增大光谱响应。二极管的保护环由未掺杂的P衬底构成虚拟保护环,由中心P阱与保护环6构成的附加结电场小于雪崩区电场,可实现平整倍增主结区边缘电场,提高光子探测效率。
搜索关键词: 一种 集成化 硅基宽 光谱 光子 雪崩 二极管 制作方法
【主权项】:
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