[发明专利]一种集成化硅基宽光谱单光子雪崩二极管及制作方法在审
申请号: | 202110267501.6 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN115084306A | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 刘阳;朱樟明;刘马良;胡进;王夏宇;马瑞 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 刘长春 |
地址: | 710000 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供了一种集成化硅基宽光谱单光子雪崩二极管及其制作方法,二极管的阳极电极延长至浅槽隔离层10,增大了平面结拐点的曲率半径,将电场极值引入到STI区,可平整结边缘电场,使结平面电场更加均匀,且雪崩区由中心深N阱401和中心P阱601构成,可以形成较宽的雪崩倍增区,有效提高短波近红外波段的光子吸收,增大光谱响应。二极管的保护环由未掺杂的P衬底构成虚拟保护环,由中心P阱与保护环6构成的附加结电场小于雪崩区电场,可实现平整倍增主结区边缘电场,提高光子探测效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成化 硅基宽 光谱 光子 雪崩 二极管 制作方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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