[发明专利]一种通过电场控制α-Ga2

摘要

一种通过电场控制α‑Ga2O3沉积速度的装置及方法，该装置包括多块正电极极板(1)、多块负电极极板(2)、液位控制装置(4)、雾化装置(5)、反应腔(7)和尾气处理装置(8)，多块正电极极板和多块负电极极板分别并排对应放置在反应腔的两侧，每对正负电极板之间形成电场；液位控制装置与雾化装置相连，反应腔内放置有衬底(6)，反应腔一端通过气溶胶输送管道与雾化装置连通、另一端与尾气处理装置连通；雾化装置内盛放有前驱体溶液，雾化装置顶端通过载气控制系统(3)与载气瓶(9)相连。该装置及方法能通过改变反应腔内不同位置处的电压大小来调控电极板之间电场强度，从而对不同位置衬底上薄膜沉积速度和薄膜厚度进行控制。