[发明专利]光学测定方法、光学测定装置及光学测定程序在审
申请号: | 202110268504.1 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113390353A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 稻也大辅 | 申请(专利权)人: | 大塚电子株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01N21/01;G01N21/27 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及光学测定方法、光学测定装置及光学测定程序。其技术问题是使用简易的测定机构测定分光光谱,确定该分光光谱中包括的峰值或谷值的次数并且测定准确的延迟。本发明的光学测定方法,包括:对样品测定分光光谱的步骤;使用第一波长色散公式按峰值或谷值表示的每个波长计算样品的厚度,并且在基于计算出的厚度的评价值最大的条件下,临时决定第一波长色散公式所包括的系数的步骤;在多种条件下设定特定的峰值的次数,根据设定的多个条件,计算第二波长色散公式的步骤;基于包括临时决定的系数的第一波长色散公式和第二波长色散公式,确定特定的峰值的次数,并且基于确定的次数和第二波长色散公式,正式决定系数的步骤;计算延迟的步骤。 | ||
搜索关键词: | 光学 测定 方法 装置 程序 | ||
【主权项】:
暂无信息
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