[发明专利]透明导电性薄膜的制造方法和透明导电性薄膜在审
| 申请号： | 202110268823.2 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN113393972A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 梶原大辅;碓井圭太 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供透明导电性薄膜的制造方法和透明导电性薄膜。透明导电性薄膜(2)的制造方法中，一边沿长度方向输送长条透明薄膜(10)，一边在长条透明薄膜(10)的一个面上形成透明导电层(22)。透明导电层(22)通过一边沿成膜辊(15)的周面输送长条透明薄膜(10)一边溅射来形成。透明导电层(22)的厚度超过35nm。透明导电层(22)在形成时与长条透明薄膜(10)的长度方向垂直的截面的每单位面积的输送张力为3.3N/mm |
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| 搜索关键词： | 透明 导电性 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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