[发明专利]控制含镓类光功能晶体挥发的提拉制备装置及方法在审
| 申请号： | 202110271151.0 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN112941620A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 窦仁勤;张庆礼;刘文鹏;何異;陈迎迎;张昊天 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C30B15/14 | 分类号： | C30B15/14;C30B15/20;C30B29/16;C30B29/22 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 汪贵艳 |
| 地址： | 230031 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了控制含镓类光功能晶体挥发的提拉制备装置及方法，包括坩埚、设置于坩埚中的含镓类晶体、用于对含镓类晶体进行加热的加热机构和用于对含镓类晶体进行辅助生长的提拉机构，提拉机构的提拉端伸入坩埚中、并与坩埚中设置的含镓类晶体抵接，所述加热机构包括至少两段加热单元，每段加热单元均分别缠绕在坩埚外周；该提拉制备装置采用这种多段式感应线圈加热的方式实现含镓类晶体的熔体随着晶体的生长从坩埚口向坩埚底方向逐步熔化，避免坩埚中所有含镓类晶体的全周期熔化导致晶体熔体组分挥发严重以及不可控的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 含镓类光 功能 晶体 挥发 制备 装置 方法 | ||
【主权项】：
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