[发明专利]一种大面积石墨相氮化碳薄膜、制备方法及应用在审
申请号: | 202110277528.3 | 申请日: | 2021-03-15 |
公开(公告)号: | CN113046724A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 娄庆;单崇新;刘志豫 | 申请(专利权)人: | 郑州大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/52;C23C16/01 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 梁静 |
地址: | 450000 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明公开了一种厚度可调的大面积石墨相氮化碳薄膜制备方法,涉及碳材料技术领域。包括以下步骤:将三嗪类含氮杂环有机化合物粉末和衬底分别置于双温区加热容器中,将所述三嗪类含氮杂环有机化合物粉末置于所述源区,将所述衬底置于所述生长区;向所述双温区加热容器内通入惰性气体,所述惰性气体是从所述源区流向所述生长区;并控制所述源区温度为250~300℃和所述生长区温度为500~600℃,保温时长为5~120min,即得所述石墨相氮化碳薄膜。本发明采用热气相传输辅助缩聚沉积方法,制备出4英寸大面积均匀石墨相氮化碳薄膜,得到的石墨相氮化碳厚度可以轻松通过生长时间精确控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 大面积 石墨 氮化 薄膜 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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