[发明专利]一种高功率半导体激光器的散热装置在审

专利信息
申请号: 202110282688.7 申请日: 2021-03-16
公开(公告)号: CN113054527A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 曹银花;潘建宇 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01S5/024 分类号: H01S5/024
代理公司: 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人: 张焕响
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种高功率半导体激光器的散热装置,包括:相对安装的上层水冷板和下层水冷板;上层水冷板上安装有多个半导体激光器;上层水冷板与下层水冷板的接触面处设有封闭的流体通道,流体通道根据多个半导体激光器的位置曲线布设,流体通道在高水压区域设置湍流缓冲仓,高水压区域包括进水口区域以及拐角处;下层水冷板上设有进液口和出液口,进液口与流体通道的一端相连,出液口与流体通道的另一端相连。本发明可实现对多个高功率半导体激光器的均匀散热,避免水冷板受冷却液冲击产生形变,降低流体通道内气泡的生成;从而保证激光器光学系统稳定性、提高散热效率。
搜索关键词: 一种 功率 半导体激光器 散热 装置
【主权项】:
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