[发明专利]一种光学镀膜用高纯度二氧化硅及其制备工艺有效
| 申请号： | 202110283925.1 | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN112938989B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 李晨;李洪亮 | 申请（专利权）人： | 江苏微纳光膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;C03C17/245 |
| 代理公司： | 苏州市方略专利代理事务所(普通合伙) 32267 | 代理人： | 薛寓怀 |
| 地址： | 221400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学镀膜用高纯度二氧化硅及其制备工艺，属于二氧化硅制备技术领域，包括以下步骤：S1：水热处理：取质量配比的水玻璃与表面活性剂混合置于反应釜内，然后加入溶剂，搅拌均匀后分别加入质量配比的醋酸溶液及醋酸铵溶液，调节pH至4‑5，先进行老化处理，然后进行水热处理；S2：清洗：将步骤1所得产物离心后采用去离子水进行多次洗涤至中性并将水分烘干；S3：煅烧：将清洗后的产物采用酸液浸渍4‑5 h，然后将浸渍后的产物置于煅烧炉内进行煅烧。该种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺简单，所制备的二氧化硅纯度高，内部孔径分布均匀，透光率高，折射率低，适用于工业大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 纯度 二氧化硅 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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