[发明专利]一种低内阻三元单晶极片的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110285899.6 申请日: 2021-03-17
公开(公告)号: CN113054164A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 段锐;郑刚;汪宇;林浩 申请(专利权)人: 合肥国轩高科动力能源有限公司
主分类号: H01M4/1391 分类号: H01M4/1391;H01M4/36;H01M4/505;H01M4/525;H01M4/485;H01M4/583;H01M4/62;H01M10/0525
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 韩燕
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种低内阻三元单晶极片的制备方法,将钙钛矿‑钛酸镧锂和石墨烯材料作为包覆材料包覆于三元单晶材料的表面,使得极片活性材料具有良好的离子导电性和电子导电性,大大降低了材料本体内阻。本发明通过控制三元单晶/钛酸镧锂/石墨烯复合材料的粒径分布、导电剂和正极集流体的选择,使得电极拥有更好的孔结构,利于Li+扩散,更易形成导电网络,涂碳铝箔的选择明显降低活性颗粒与集流体的接触阻抗,且可降低电池在使用过程中内阻的增幅。本发明制得的低内阻三元单晶极片,比常规三元单晶极片内阻低50‑80%左右,解决了三元单晶材料由于颗粒大、Li+扩散困难、倍率差、极化大的问题,非常有利于单晶三元材料的大规模使用。
搜索关键词: 一种 内阻 三元 单晶极片 制备 方法
【主权项】:
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