[发明专利]一种半导体器件布局结构在审

专利信息
申请号: 202110288621.4 申请日: 2021-03-18
公开(公告)号: CN113054006A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 苏炳熏;杨展悌;叶甜春;罗军;赵杰;薛静 申请(专利权)人: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院;澳芯集成电路技术(广东)有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L27/088;H01L27/02
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 朱晓林
地址: 510535 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种半导体器件布局结构,其可使半导体器件尺寸缩小,同时可确保半导体器件的电学性能,其包括衬底、布置于衬底上的源极区、漏极区、栅极区、连通源极区与漏极区的沟道、连接线,源极区、漏极区、栅极区均为主动区域,主动区域包括第一主动区域、第二主动区域,源极区、漏极区均包括若干间隔平行分布的第一主动区域,栅极区包括三个间隔平行分布的第二主动区域,且三个第二主动区域分别与源极区和漏极区的两侧端、中部垂直,连接线位于相邻两个第二主动区域之间,连接线与栅极区平行,与第一主动区域垂直相交,连接线的两端凸出于第一主动区域的两侧,或连接线位于第一主动区域的中部位置或边缘位置,第二主动区域的宽度为14nm。
搜索关键词: 一种 半导体器件 布局 结构
【主权项】:
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